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柱狀奈米碳管陣列之場發射元件特性與應用之研究

為了解決DUCATI 696的問題，作者張加聰 這樣論述：

本論文旨在研究柱狀奈米碳管陣列中碳管高度對其場發射特性之影響，以獲得最佳之場發射電子源分佈，並將此結構應用於各種場發射相關元件，如:場發射顯示器、場發射軟性照明元件與氣體解離式感測器。除此，本研究亦藉由共鍍方式將金屬鈦混合於催化金屬鈷中來增強元件可靠度進以改善場發射元件之電流均勻性，且此方式亦可有效的提升氣體解離式感測器之特性。 首先，利用微影的方式以鈷鈦共鍍為催化金屬製作柱狀奈米碳管之場發射元件，當柱狀奈米碳管高度為15微米時，其具有較高之場發射增強因子(5384)、較低之開啟電場(0.84 V/m)與臨界值電場(1.51 V/m)；由於鈷鈦共鍍方式能獲得較均勻的碳管長度與較佳之

碳管附著力，使元件在電場為0.16 V/m時操作1800秒，擁有只有25 %之場發射電流變動率。同時藉由ISE TCAD模擬軟體驗證，當高度從5微米增加至15微米，其柱狀碳管陣列之最邊緣電場將隨之增加；然而當碳管高度從15微米增加至60微米，其柱狀碳管陣列之最邊緣電場將趨於飽和。另一方面，受到鄰近之柱狀碳管之屏蔽效應，當碳管高度大於10微米時，陣列內的柱狀碳管之邊緣電場(包含中間及中心之柱狀碳管之邊緣)將隨著碳管高度增加而降低。在兩種效應(高度與屏蔽效應)交互作用下，元件於高度15微米時有最佳之場發射特性。 接著，利用塗佈方式使聚二甲基矽氧烷滲透於具有薄膜氧化層沉積之柱狀奈米碳管陣列，

成功製作具有高穿透率、高場發射特性之軟性照明元件。其中，氧化層薄膜可有效保護柱狀碳管之結構，以避免碳管於製程中遭到損壞。並藉由高密度電漿乾式蝕刻機使碳管裸露於元件表面，當蝕刻氧化層時間為20分鐘時，除了可移除非晶態之碳膜，提高碳管之結晶性，並可打開碳管之開口，導致具有15微米高之聚二甲基矽氧烷-柱狀奈米碳管於矽基板上擁有較高之場增強因子、低的開啟電場(0.8 V/m)與臨界值電場(1.43 V/m)，且由於聚二甲基矽氧烷可有效附著於碳管側壁進以提升碳管與基板之附著力，使其在電場為0.16 V/m時操作1800秒，擁有只有15 %之電流變動率。當此聚二甲基矽氧烷-柱狀奈米碳管薄膜剝離矽基

板後，其場發射特性與直接成長於矽基板之場發射特性差異甚小，故此薄膜在照明元件應用上應有莫大之潛力。針對薄膜氣體解離式感測元件，我們利用共鍍催化金屬能有效提升催化金屬活性與大小分佈。在量測十顆相同結構之元件於氮氣環境下，其崩潰電壓相對於非共鍍者之60 %變化僅有25 %之變化。且當元件於0.035 Torr之氮氣環境下操作1000次後，其元件變動量僅有14 %。另外，在量測空氣-氬氣與空氣-二氧化碳之混合氣體時，其線性度為97.8 與98.6 %。因此利用共鍍催化金屬所合成之碳管薄膜氣體解離式感測器能有效提升元件之穩定性、再現性與線性度等特性。 進一步利用共鍍催化金屬成長柱狀奈米碳管陣列來

製作氣體解離式感測元件，相對於薄膜氣體解離式感測器進一步優化其氣體解離之特性。當柱狀碳管高度為15微米時，其場發射增強因子為碳管薄膜之20倍，因此該元件於0.035 Torr之氮氣環境下擁有較薄膜結構更小之崩潰電壓(350 V)，且該元件能有效分辨各式不同之氣體。此外，由於利用共鍍催化金屬來成長碳管，故在量測空氣-氬氣與空氣-二氧化碳之混合氣體時，亦顯示優異之線性度特性(98 與98.4 %)。由此得知具有15微米之柱狀奈米碳管陣列比碳管薄膜更適合應用於氣體解離式感測器。